[发明专利]成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201180020318.0 | 申请日： | 2011-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN102870030A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | H-J.曼;D.谢弗 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种成像光学系统（1），其具有多个反射镜（M1-M6），该多个反射镜（M1-M6）将物平面（5）中的物场（3）成像至像平面（9）中的像场（7），该成像光学系统包括第一部分物镜（11）和第二部分物镜（13），第一部分物镜（11）将物场成像至中间像（15）上，第二部分物镜（13）将中间像成像至像场上，并包括物场和像场之间的成像光线（17）的光路中的倒数第二个反射镜（M5）、以及该光路中的最后一个反射镜（M6）。这里，倒数第二个反射镜（M5）将中间像成像至另一中间像（19）上，且最后一个反射镜将该另一中间像成像至像场上。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 具有 这种 用于 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种成像光学系统（1，501，601，701，801），其具有多个反射镜（M1‑M6，M501‑506，M601‑606，M701‑706，M801‑806），所述多个反射镜将物平面（5，505，605，705，805）中的物场（3，503，603，703，803）成像至像平面（9，509，609，709，809）中的像场（7，507，607，707，807），所述成像光学系统包括：第一部分物镜（11，511，611，711，811），其将所述物场成像至中间像（15，515，615，715，815）上，以及第二部分物镜（13，513，613，713，813），其将所述中间像成像至所述像场上，并包含所述物场和所述像场之间的成像光（17，517，617，717，817）的光路中的倒数第二个反射镜（M5，M505，M605，M705，M807）、以及所述光路中的最后一个反射镜（M6，M506，M606，M706，M808），其特征在于：所述倒数第二个反射镜（M5，M505，M605，M705，M807）将所述中间像成像至另一中间像（19，519，619，719，819）上，且所述最后一个反射镜将所述另一中间像成像至所述像场上。
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