[发明专利]可降解的光交联剂有效

专利信息
申请号: 201180021034.3 申请日: 2011-03-29
公开(公告)号: CN102869671B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: A·V·库尔久莫夫;D·G·斯旺 申请(专利权)人: 苏尔莫迪克斯公司
主分类号: C07F9/40 分类号: C07F9/40;A61L27/34;C07F7/08;C07F7/18;C08F2/46
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 王晖;李丙林
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在此描述了具有化学式Photo1‑LG‑Photo2的一种可降解的连接剂,其中Photo1和Photo2独立地代表至少一个光反应性基团,并且LG代表一个包括一个或多个硅原子或一个或多个磷原子的连接基团。该可降解的连接剂包括在至少一个光反应性基团和该连接基团之间的一个共价键,其中在至少一个光反应性基团和该连接基团之间的该共价键被至少一个杂原子所中断。还描述了一种用该可降解的连接剂涂覆载体表面的方法、多种涂覆后的载体表面以及多种医疗器械。
搜索关键词: 降解 交联剂
【主权项】:
1.一种可降解的连接剂,具有选自下组的一个化学式:(a)其中R1、R2、R8和R9是H、卤素、羟基、氨基或其组合;R3、R4、R6和R7是苯基、甲基、乙基、异丙基、叔丁基、羟基或其盐;R5是O、C1‑C10烷基或其组合;并且每个X独立地是O、NH、Se、或S;和(b)其中R1、R2、R4、R5是H、卤素、羟基、氨基或其组合;R6、R7是羟基或其盐;R3是O、C1‑C10烷基或其组合;并且每个X可以独立地是O、NH、Se、或S。
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