[发明专利]真空处理装置、基板和对位掩模的移动方法以及对位方法及成膜方法

摘要

本发明提供一种即便不将真空槽内曝露于大气也能够更换对位掩模的真空处理装置。在气体导入装置（12）的下方配置插入有基板升降销（46）、在上下方向中比基板升降销（46）还长的掩模升降销（45）的板（23），在板（23的下方配置有构成为在令与板（23）之间接近至第一距离以下时分别铅直地载置掩模升降销（45）和基板升降销（46）的销支承部件（24）。掩模升降销（45）和基板升降销（46）上设置卡止部件（47），当令板（23）和销支承部件（24）之间为比第一距离还分离的第二距离以上时，令掩模升降销（45）和基板升降销（46）在销支承部件（24）上方从销支承部件（24）离开而被板（23）悬吊。

主权项

一种真空处理装置，具有：真空槽；板，设置基板；掩模升降销，构成为，插入到形成在上述板中的掩模升降用贯通孔中，能够在上端配置对位掩模；基板升降销，构成为，插入到形成在上述板中的基板升降用贯通孔中，能够在上端配置基板；销支承部件，配置在上述板的下方位置，能够相对于上述板上下地相对移动，上述掩模升降销形成为上下方向上比上述基板升降销长，若令上述板的朝向下方的面与悬吊于上述板的上述基板升降销的下端之间的距离为第一距离、令上述板的朝向下方的面与悬吊于上述板的上述掩模升降销的下端之间的距离为第二距离，则在上述板的朝向下方的面与上述销支承部件的朝向上方的面之间小于上述第一距离时，上述掩模升降销和上述基板升降销被上述销支承部件支承，在上述板的朝向下方的面与上述销支承部件的朝向上方的面之间大于上述第一距离且小于上述第二距离时，上述掩模升降销被上述销支承部件支承，上述基板升降销悬吊于上述板，在上述板的朝向下方的面与上述销支承部件的朝向上方的面之间大于上述第二距离时，上述掩模升降销与上述基板升降销悬吊于上述板。