[发明专利]波纹放大装置有效

专利信息
申请号: 201180022006.3 申请日: 2011-03-01
公开(公告)号: CN102869518A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: B·W·霍姆斯 申请(专利权)人: 德拉鲁国际有限公司
主分类号: B42D15/10 分类号: B42D15/10;G07D7/00
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 于妙妙;杨勇
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 公开了波纹放大装置,包括透明基底,该透明基底承载有:第一表面上的规则的微聚焦元件阵列,所述聚焦元件限定了一个焦平面;以及相应的第一微图像元件阵列,位于与所述聚焦元件的焦平面基本重合的平面内。所述微聚焦元件的节距和所述微图像元件阵列的节距以及它们的相对位置使得:所述微聚焦元件阵列与所述微图像元件阵列协作,以因波纹效应而生成微图像元件的放大版本。沿着所述装置的至少第一区域中的至少一个轴线,所述微图像元件之间的节距和/或所述微聚焦元件之间的节距在对应的阵列中连续变化,凭此,波纹效应造成所述图像元件出现不同的放大程度,以使得观察者感知到所述放大元件位于相对于所述装置的表面倾斜或弯曲的第一图像表面上。
搜索关键词: 波纹 放大 装置
【主权项】:
一种波纹放大装置,包括透明基底,该透明基底承载有:i)第一表面上的规则的微聚焦元件阵列,所述聚焦元件限定了一个焦平面;以及ii)相应的第一微图像元件阵列,位于与所述聚焦元件的焦平面基本重合的平面内;其中所述微聚焦元件的节距和所述微图像元件阵列的节距以及它们的相对位置使得:所述微聚焦元件阵列与所述微图像元件阵列协作,以因波纹效应而生成所述微图像元件的放大版本,且其中,沿着所述装置的至少第一区域中的至少一个轴线,所述微图像元件之间的节距和/或所述微聚焦元件之间的节距在对应的阵列中连续变化,凭此,波纹效应造成所述图像元件出现不同的放大程度,以使得观察者感知到所述放大元件位于相对于所述装置的表面倾斜或弯曲的第一图像表面上。
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