[发明专利]单涂层的厚氧化物膜有效

专利信息
申请号: 201180022027.5 申请日: 2011-03-02
公开(公告)号: CN102870244A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 斯里瓦桑·萨特亚默西;马丁·W·鲁皮希 申请(专利权)人: 美国超导体公司
主分类号: H01L39/24 分类号: H01L39/24;C23C18/12
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;吴鹏章
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种制品,包括衬底和沉积在所述衬底上的均质金属氟氧化物中间膜层,所述中间膜包含稀土金属、碱土金属和过渡金属。所述中间膜具有小于20%的缺陷密度,并且在热处理后能够转化成化学计量厚度大于1μm且至多5μm的稀土金属-碱土金属-过渡金属-氧化物超导体膜。还公开了另一制品,包括衬底和化学计量厚度大于1μm且至多5μm的均质超导体膜。此外,公开了制备这两种制品的方法。
搜索关键词: 涂层 氧化物
【主权项】:
一种制品,包括:衬底;和设置在所述衬底上的均质金属氟氧化物中间膜的层,所述中间膜包含稀土金属、碱土金属和过渡金属,其中所述中间膜具有小于20%的缺陷密度,并且经热处理能够转化成化学计量厚度大于1μm且至多5μm的均质稀土金属‑碱土金属‑过渡金属‑氧化物超导体膜。
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