[发明专利]光学验证组件以及制造所述组件的方法有效
| 申请号： | 201180023105.3 | 申请日： | 2011-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN103038674A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | A·努瓦泽;V·珀蒂东 | 申请（专利权）人： | 全息防伪工业公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B42D15/00;B42D15/10;G06K19/16;G07D7/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;韩宏 |
| 地址： | 法国碧*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据一个方面，本发明涉及一种在反射中可见的光学验证组件，包括：印制在折射率为n0的基板(20)上的结构(23)；由不同于n0的折射率n1的介电材料制成并沉积在所述结构(23)上的薄层(60)；以及由具有与n0近似的折射率n2的材料制成并对涂覆有薄层(60)的结构(23)进行封装的层(50)。结构(23)包括由第二图案调制的第一图案(22)，第一图案(22)为浅浮雕，其包括小面(24)的阵列，小面(24)的形状被限定以便模拟浮雕对象(10)的浮雕图像，并且第二图案(26)是周期性光栅，所述周期性光栅被限定以便调制所述第一图案(22)，从而在已沉积所述薄层(60)以及已封装所述结构(23)之后以第一视角产生第一颜色，并且以通过所述组件的方位旋转获得的第二视角产生不同的第二颜色。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 验证 组件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种在反射中可见的光学验证组件，包括：‑至少一个印制在折射率为n0的基板(20)上的结构(23)；‑薄层(60)，由具有不同于n0的折射率n1的介电材料制成并沉积在所述结构(23)上；以及‑层(50)，由具有与n0近似的折射率n2的材料制成并对涂覆有所述薄层(60)的所述结构(23)进行封装，所述结构(23)包括由第二图案调制的第一图案(22)：‑所述第一图案(22)是包括小面(24)的阵列的浅浮雕，所述小面(24)的形状被限定以便模拟浮雕对象(10)的浮雕图像；‑所述第二图案(26)是周期性光栅，所述周期性光栅被限定以便调制所述第一图案(22)，从而在已沉积所述薄层(60)以及已封装所述结构(23)之后以第一视角产生第一颜色，并且以通过所述组件的方位旋转获得的第二视角产生不同的第二颜色。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于全息防伪工业公司，未经全息防伪工业公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180023105.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
