[发明专利]折射率分布测量方法和折射率分布测量装置有效
申请号: | 201180024878.3 | 申请日: | 2011-05-19 |
公开(公告)号: | CN102918373A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 杉本智洋 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G01M11/00;G01N21/45 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 罗银燕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一方法包括:通过将基准光引入到被布置在折射率与测试对象的折射率不同的介质中的测试对象中来测量测试对象的透过波面,以及通过使用透过波面的测量结果来计算测试对象的折射率分布。测量步骤测量对于第一波长的第一透过波面和对于与第一波长不同的第二波长的第二透过波面。计算步骤通过利用第一透过波面和第二透过波面的测量结果以及被布置在介质中的基准对象的对于第一波长和第二波长中的每一个的透过波面来去除测试对象的形状成分,计算测试对象的折射率分布。基准对象具有与测试对象相同的形状和特定的折射率分布。 | ||
搜索关键词: | 折射率 分布 测量方法 测量 装置 | ||
【主权项】:
一种折射率分布测量方法,包括以下步骤:通过将基准光引入到被布置在折射率与测试对象的折射率不同的介质中的测试对象中来测量测试对象的透过波面;以及通过使用透过波面的测量结果来计算测试对象的折射率分布,其中,测量步骤测量对于第一波长的第一透过波面和对于与第一波长不同的第二波长的第二透过波面,以及其中,计算步骤通过利用第一透过波面和第二透过波面的测量结果以及被布置在所述介质中的基准对象的对于第一波长和第二波长中的每一个的透过波面来去除测试对象的形状成分,计算测试对象的折射率分布,基准对象具有与测试对象相同的形状和特定的折射率分布。
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