[发明专利]平面腔体微机电系统及相关结构、制造和设计结构的方法有效
| 申请号： | 201180025546.7 | 申请日： | 2011-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN102906009A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | D.丹格;T.多安;G.A.邓巴;何忠祥;R.T.赫林;C.V.扬斯;J.C.马林;W.J.墨菲;A.K.斯坦珀;J.G.通布利;E.J.怀特 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | B81B3/00 | 分类号： | B81B3/00;B81C1/00;H01H59/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了平面腔体微机电系统（MEMS）结构、制造和设计结构的方法。该方法包括：采用反向镶嵌工艺形成至少一个微机电系统（MEMS）腔体（60a，60b），该至少一个微机电系统腔体具有平面表面。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 微机 系统 相关 结构 制造 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：采用反向镶嵌工艺形成至少一个微机电系统（MEMS）腔体，所述至少一个微机电系统腔体具有平面表面。
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