[发明专利]图案形成方法以及感光化射线性或感放射线性树脂组合物有效
| 申请号： | 201180025664.8 | 申请日： | 2011-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102906642A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 岩户熏;高桥秀知;平野修史;上村聪;加藤启太 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成图案的方法以及一种在极限解析力、粗糙度特征、曝光宽容度(EL)及桥接缺陷性能方面优越的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。所述形成图案的方法包含(1)使感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜、(2)将所述膜曝光，以及(3)以含有有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)含有具有被设置为用以当曝露于光化射线或放射线时分解而产生酸的结构部分的重复单元的树脂，以及(B)溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 以及 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其包括：(1)使感光化射线性或感放射线性的树脂组合物形成膜，(2)将所述膜曝光，以及(3)以含有有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，所述感光化射线性或感放射线性的树脂组合物包括：(A)含有具有被设置为用以当曝露于光化射线或放射线时分解而产生酸的结构部分的重复单元的树脂，以及(B)溶剂。
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