[发明专利]溅射靶有效
| 申请号： | 201180027030.6 | 申请日： | 2011-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN102918004A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 笘井重和;江端一晃;松崎滋夫;矢野公规 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/00 | 分类号： | C04B35/00;C23C14/34;H01L21/363;H01L29/786 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化物烧结体，其特征在于，含有铟(In)、镓(Ga)和正三价和/或正四价的金属X的氧化物，相对于In和Ga的总量，金属X的配合量为100～10000ppm(重量)。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【主权项】：
一种氧化物烧结体，其特征在于，含有铟(In)、镓(Ga)和正三价和/或正四价的金属X的氧化物，相对于In和Ga的总量，金属X的配合量，以重量计为100～10000ppm。
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