[发明专利]具有旋转磁铁组件和中央馈送射频功率的物理气相沉积腔室有效
| 申请号： | 201180027524.4 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102918175A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·里奇;基思·米勒 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;钟强 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供用于物理气相沉积(PVD)处理基板的改善方法和装置。在某些实施例中，物理气相沉积装置(PVD)可包括：靶材组件，所述靶材组件具有包含待沉积于基板上的源材料的靶材、反向配置于靶材背面并沿靶材的周围边缘电耦接至靶材的相对源分配板、和配置在靶材背面与源分配板之间的空腔；在与靶材的中央轴重合的一点处耦接至源分配板上的电极；和包括可旋转磁铁的磁控管组件，可旋转磁铁配置于空腔内且具有与靶材组件的中央轴对齐的旋转轴，其中所述磁控管组件并非由电极驱动。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 旋转 磁铁 组件 中央 馈送 射频 功率 物理 沉积 | ||
【主权项】：
一种用于物理气相沉积(PVD)的装置，所述装置包括：靶材组件，所述靶材组件具有包含待沉积于基板上的源材料的靶材、反向配置于所述靶材背面并沿所述靶材的周围边缘电耦接至所述靶材的相对源分配板、和配置在所述靶材背面与所述源分配板之间的空腔；电极，所述电极在与所述靶材的中央轴重合的一点处耦接至所述源分配板；和包括可旋转磁铁的磁控管组件，所述可旋转磁铁配置于所述空腔内且具有与所述靶材组件的中央轴对齐的旋转轴，其中所述磁控管组件并非由所述电极驱动。
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