[发明专利]用于确定掺杂的半导体区域的有效掺杂浓度的方法有效
申请号: | 201180027583.1 | 申请日: | 2011-06-06 |
公开(公告)号: | CN102939527A | 公开(公告)日: | 2013-02-20 |
发明(设计)人: | J·波格丹诺维奇;T·克拉里塞;W·范德沃斯特 | 申请(专利权)人: | IMEC公司;鲁汶天主教大学 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17;G01N21/95 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张欣 |
地址: | 比利*** | 国省代码: | 比利时;BE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了用于光学地确定基本完全激活的掺杂分布图的方法(200)和系统。用一组物理参数来表征该基本完全激活的掺杂分布图。该方法(200)包括获得包含完全激活的掺杂分布图的样本和参照物、以及对于包含完全激活的掺杂分布图的该样本和对于该参照物,获得(210,230)光学调制的反射系数(PMOR)偏置曲线测量数据和DC反射系数测量数据。该方法还包括基于光学调制反射系数偏置曲线测量和DC反射系数测量二者,确定(220、240)掺杂分布图的一组物理参数的值。 | ||
搜索关键词: | 用于 确定 掺杂 半导体 区域 有效 浓度 方法 | ||
【主权项】:
一种用于光学地确定基本完全激活的掺杂分布图的方法(200),通过一组物理参数来表征所述基本完全激活的掺杂分布,该方法(200)包括‑获得包括所述完全激活的掺杂分布图的样本和参照物‑对于包括完全激活的掺杂分布图的所述样本、以及对于所述参照物,获得(210,230)光学调制反射系数(PMOR)偏置曲线测量数据和DC反射系数测量数据,和‑基于所述光学调制反射系数偏置曲线测量和DC反射系数测量二者,来确定(220,240)所述掺杂分布图的一组物理参数的值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于IMEC公司;鲁汶天主教大学,未经IMEC公司;鲁汶天主教大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180027583.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。