[发明专利]含氮杂芳基化合物有效
申请号: | 201180027950.8 | 申请日: | 2011-06-06 |
公开(公告)号: | CN102947292A | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 康拉德·辈莱切;亚历山大·弗洛尔;卡特里·格勒布科茨宾登;费利克斯·格鲁伯;马蒂亚斯·克尔纳;贝恩德·库恩;延斯-乌韦·彼得斯;罗莎·马丽亚·罗得里格斯萨尔米恩托 | 申请(专利权)人: | 霍夫曼-拉罗奇有限公司 |
主分类号: | C07D401/14 | 分类号: | C07D401/14;C07D403/12;C07D403/14;C07D409/14;C07D413/14;C07D417/14;A61K31/506;A61P25/00;A61P35/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王旭;贺卫国 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: |
本发明涉及新的式(I)的含氮杂芳基化合物,其中A1、A2、(a)、R1、R2、R3、R4、R5和R6如在说明书和权利要求中所限定,以及其生理学可接受的盐和酯。这些化合物抑制PDE10A并且可以被用作药物。 |
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搜索关键词: | 含氮杂 芳基化 | ||
【主权项】:
1.一种式(I)的化合物
其中A1选自由CH和N组成的组;A2选自由CR19和N组成的组,条件是A1和A2不同时是N;
是芳基或杂芳基,其中所述芳基和所述杂芳基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1至3个取代基取代:低级烷基、低级烷氧基、低级羟烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-C(O)-、-C(O)-N(R8)2、-N(R8)-C(O)-低级烷基、氰基、卤素、R9和氨基,并且其中所述低级烷基任选地被氧代、-C(O)OH、低级烷氧基-C(O)-或R7取代,并且其中所述低级烷氧基任选地被羟基、低级烷氧基或-C(O)-N(R8)2取代,并且其中所述氨基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1或2个取代基取代:低级烷基、低级羟烷基、低级烷氧基-低级烷基和低级烷基-C(O)-;R1是低级烷基、低级烷氧基、低级羟烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-C(O)-、-O-低级卤代烷基、氰基、卤素、R7或氨基,其中所述低级烷基任选地被R7取代,并且其中所述氨基任选地被独立地选自由低级烷基和低级烷氧基-低级烷基组成的组的1或2个取代基取代;R2和R3独立地是氢或低级烷基;R4是芳基或杂芳基,其中所述芳基和所述杂芳基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1至3个取代基取代:羟基、卤素、低级烷基、低级烷氧基、低级羟烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-C(O)-、氰基和氨基,并且其中所述氨基任选地被独立地选自由低级烷基和低级烷氧基-低级烷基组成的组的1或2个取代基取代;R5和R6独立地是氢、低级烷基、低级烷氧基、低级卤代烷基、低级氰基烷基、低级羟烷基、低级烷氧基-低级烷基、环烷基或杂环基,其中所述低级烷基任选地被氧代、R7或-N(R8)2取代,并且其中所述低级卤代烷基任选地被羟基取代,并且其中所述环烷基和所述杂环基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1至3个取代基取代:羟基、卤素、低级烷基、低级烷氧基、低级羟烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基-低级烷基、乙酰基、氰基、-C(O)-低级烷氧基和-N(R8)2,或R5和R6,与它们连接的氮原子一起,形成杂环基或螺-杂环基,其中所述杂环基和所述螺-杂环基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1至3个取代基取代:羟基、卤素、低级烷基、低级烷氧基、低级羟烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基-低级烷基、低级烷基-C(O)-、氰基、氧代和氨基,并且其中所述氨基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1或2个取代基取代:低级烷基、低级羟烷基和低级烷氧基-低级烷基;R7是环烷基或杂环基,其中所述环烷基和所述杂环基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1或2个取代基取代:低级烷基、低级羟烷基、低级烷氧基-低级烷基、卤素和低级卤代烷基;R8独立地选自由下列各项组成的组:氢、低级烷基、低级羟烷基和低级烷氧基-低级烷基;R9是环烷基、杂环基、芳基或杂芳基,其中所述环烷基、所述杂环基、所述芳基和所述杂芳基任选地被独立地选自由下列各项组成的组的1或2个取代基取代:低级烷基、低级羟烷基、低级烷氧基-低级烷基、卤素和低级卤代烷基;R19是氢或四氢呋喃-2-基;或其药用盐。
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