[发明专利]压电膜器件和压电膜装置有效
申请号: | 201180029026.3 | 申请日: | 2011-03-30 |
公开(公告)号: | CN102959751A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 柴田宪治;末永和史;渡边和俊;野本明;堀切文正 | 申请(专利权)人: | 日立电线株式会社 |
主分类号: | H01L41/187 | 分类号: | H01L41/187;C04B35/495;H01L41/09;H01L41/39 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在基板上具有压电膜的压电膜器件,其中,所述压电膜具有用通式(K1-xNax)yNbO3(0<x<1)表示的碱金属铌氧化物系的钙钛矿结构,所述碱金属铌氧化物系的组成为0.40≤x≤0.70且0.77≤y≤0.90的范围,此外,所述(K1-xNax)yNbO3膜的面外方向晶格常数c与面内方向晶格常数a的比为0.985≤c/a≤1.008的范围。 | ||
搜索关键词: | 压电 器件 装置 | ||
【主权项】:
一种压电膜器件,其为在基板上具有压电膜的压电膜器件,所述压电膜具有用通式(K1‑xNax)yNbO3表示的碱金属铌氧化物系的钙钛矿结构,其中,0<x<1,所述碱金属铌氧化物系的组成为0.40≤x≤0.70且0.77≤y≤0.90的范围,此外,所述(K1‑xNax)yNbO3膜的面外方向晶格常数c与面内方向晶格常数a的比为0.985≤c/a≤1.008的范围。
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