[发明专利]隅角立方体辐射控制有效
| 申请号： | 201180029110.5 | 申请日： | 2011-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN103430276B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 唐·W·科克伦 | 申请（专利权）人： | 派拉斯科IP有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J40/02 | 分类号： | H01J40/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 吴晓辉 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述一种用于在直接辐射加热系统中利用隅角立方体反射器技术进行辐射控制的系统和方法。所述系统和方法在多种类型的直接辐射加热系统中具有应用且可适用于窄频带或宽频带受引导辐射加热系统两者。实施方案的目的和结果是通过使光子改向返回到正用辐射能量加热或处理的目标物品而改进总系统效率。 | ||
| 搜索关键词： | 立方体 辐射 控制 | ||
【主权项】：
一种用于辐射处理或加工目标物品的系统，所述系统包括：辐射源，其操作以产生辐射，所述辐射源经配置以朝向目标物品引导辐射；及辐射区，所述目标物品将被定位在其中以进行辐射，所述辐射区至少部分由贴近的隅角立方体反射器材料封围，所述隅角立方体反射器材料包括隅角立方体反射器阵列，其中所述隅角立方体反射器尺寸足够小且相互邻接，且所述隅角立方体反射器材料经配置以使得已经从所述目标物品上反射、反向散射或穿过所述目标物品中的至少一者的辐射照到所述隅角立方体反射器阵列的反射器且被所述反射器反射回至所述目标物品上的与第一位置大致相同的第二位置，该第一位置是辐射从所述目标物品上反射、反向散射或穿过所述目标物品中的至少一者的位置。
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