[发明专利]还原剂供应装置及利用它的排气脱氮系统有效
| 申请号： | 201180029940.8 | 申请日： | 2011-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102946975A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 李树泰;崔元硕;姜炅佑 | 申请（专利权）人： | 泛亚有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/56 | 分类号： | B01D53/56;B01D47/06;B01D53/78;B01D53/34 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 李丙林;张英 |
| 地址： | 韩国釜*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种还原剂供应装置及利用它的排气脱氮系统，包括：还原剂供应单元，把还原剂供应到选择性供应单元；供水单元，把水供应到选择性供应单元；选择性供应单元，把上述还原剂供应单元与供水单元所供应的还原剂与水中的一个选择性地供应到喷射单元；喷射单元，把上述选择性供应单元所供应的还原剂或水加以喷射；上述选择性供应单元把水供应到在上述喷射单元继续喷射还原剂的过程中或装置临时故障而残留的还原剂固化而堵塞的上述喷射单元，从而得以防止上述喷射单元堵塞。 | ||
| 搜索关键词： | 还原剂 供应 装置 利用 排气 系统 | ||
【主权项】：
原剂供应装置，其特征在于，包括：还原剂供应单元，把还原剂供应到选择性供应单元；供水单元，把水供应到选择性供应单元；选择性供应单元，把上述还原剂供应单元与供水单元所供应的还原剂与水中的一个选择性地供应到喷射单元；喷射单元，把上述选择性供应单元所供应的还原剂或水加以喷射；上述选择性供应单元把水供应到在上述喷射单元继续喷射还原剂的过程中或装置临时故障而残留的还原剂固化而堵塞的上述喷射单元，从而得以防止上述喷射单元堵塞。
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