[发明专利]模态分析有效
| 申请号： | 201180030217.1 | 申请日： | 2011-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN103004288A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 平夏斯·艾恩齐格;艾兰·本-什穆尔;亚历山大·比尔钦斯基;阿米特·拉贝尔;丹尼斯·迪卡洛夫;迈克尔·西加洛夫;约尔·比勃曼 | 申请（专利权）人： | 高知有限公司 |
| 主分类号： | H05B6/64 | 分类号： | H05B6/64 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 苗源;王漪 |
| 地址： | 百慕大*** | 国省代码： | 百慕大群岛;BM |
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| 摘要： | 在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 | ||
【主权项】：
一种用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加在射频（RF）范围中的电磁能的设备，该设备包括：至少一个处理器，该至少一个处理器被配置为：确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置；以及对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加一个第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加一个第二预定量的RF能量。
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