[发明专利]制备4-羟基吡啶的方法

摘要

一种制备式I的4-羟基吡啶的方法，其中R¹、R²、R³和R⁴具有如说明书中所定义的含义。

主权项

1.一种制备式I的4-羟基吡啶的方法：其中R¹为氢、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、芳基或杂芳基，其中后提到的两个基团未被取代或者被1、2、3或4个选自卤素、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、C₁-C₄烷氧基和C₁-C₄卤代烷氧基的取代基取代；R²、R³和R⁴独立地为氢、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、NR⁵R⁶或芳基，其中所述芳基未被取代或者被1、2、3或4个选自卤素、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、C₁-C₄烷氧基和C₁-C₄卤代烷氧基的取代基取代；或者基团R³和R⁴与它们所键合的碳原子一起形成3、4、5、6或7元饱和、部分不饱和或最大程度不饱和的碳环或者包含1、2或3个选自O、S和N的杂原子作为环成员的3、4、5、6或7元饱和、部分不饱和或最大程度不饱和的杂环，其中所述碳环或杂环未被取代或者被1、2、3或4个选自卤素、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、C₁-C₄烷氧基和C₁-C₄卤代烷氧基的取代基取代；R⁵为氢、C₁-C₄烷基或C₁-C₄卤代烷基；R⁶为氢、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、苯基和苯基-C₁-C₄烷基；或者R⁵和R⁶一起形成线性C₄-或C₅-亚烷基桥或基团-CH₂CH₂OCH₂CH₂-或-CH₂CH₂NR⁷CH₂CH₂-；并且R⁷为氢或C₁-C₄烷基；所述方法包括：a)将式II化合物：其中R¹如上所定义；X为卤素或C₁-C₄烷氧基；与式IIIa或IIIb化合物：其中R²、R³、R⁴如上所定义；Y独立地为卤素或C₁-C₄烷氧基；或者式IIIa化合物中的两个基团Y一起形成基团-O-(CH₂)_n-O-，其中链烷二基结构部分-(CH₂)_n-未被取代或者被1、2或3个选自卤素和C₁-C₄烷基的取代基取代；并且n为2、3或4；Y独立地为卤素或C₁-C₄烷氧基；或者式IIIa化合物中的两个基团Y一起形成基团-O-(CH₂)_n-O-，其中链烷二基结构部分-(CH₂)_n-未被取代或者被1、2或3个选自卤素和C₁-C₄烷基的取代基取代；并且n为2、3或4；以及至少一种选自碱金属甲醇盐和碱金属乙醇盐的碱混合，以形成反应混合物；b)在第一反应期后，将所述反应混合物用至少一种酸处理；以及c)在第二反应期后，将所述反应混合物用至少一种氨源处理。