[发明专利]密封膜形成方法、密封膜形成装置及有机发光元件有效

专利信息
申请号: 201180031181.9 申请日: 2011-06-16
公开(公告)号: CN102948255A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 石川拓;林辉幸 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H05B33/04 分类号: H05B33/04;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供密封膜形成方法、密封膜形成装置及有机发光元件。能够以比以往技术更短的时间及低成本形成抗透湿性较高的密封膜。在用于形成用于密封有机EL元件(12)的密封膜(13)的密封膜形成方法中,在有机EL元件(12)的表面上形成第一无机层(13a),在第一无机层(13a)之上形成碳氢化合物层(13c),通过使碳氢化合物层(13c)软化或熔化而使其平坦化,使碳氢化合物层(13c)固化,使碳氢化合物层(13c)固化后,在碳氢化合物层13c之上形成比第一无机层(13a)厚的第二无机层(13e)。
搜索关键词: 密封 形成 方法 装置 有机 发光 元件
【主权项】:
一种密封膜形成方法,其用于形成用于密封有机发光元件的密封膜,其特征在于,在上述有机发光元件的表面上形成第一无机层,在该第一无机层之上形成碳氢化合物层,通过使该碳氢化合物层软化或熔化而使该碳氢化合物层平坦化,使上述碳氢化合物层固化,使上述碳氢化合物层固化后,在该碳氢化合物层之上形成比上述第一无机层厚的第二无机层。
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