[发明专利]粘合剂层、粘合薄膜以及光学设备有效
| 申请号： | 201180031331.6 | 申请日： | 2011-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102947404A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 下川佳世;冈田研一;高桥俊贵;木谷义明;下栗大器;卷幡阳介 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/02 | 分类号： | C09J7/02;C09J133/00;C09J201/00;G02B5/30;C09J7/00;C09J11/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 粘合剂层是通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的。在粘合剂层的表面，厚度方向的深度为0.2～20μm且沿着表面的最大长度为1～10mm的凹部的数目为每1m25个以下。 | ||
| 搜索关键词： | 粘合剂 粘合 薄膜 以及 光学 设备 | ||
【主权项】：
一种粘合剂层，其特征在于，其为通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的粘合剂层，在所述粘合剂层的表面，厚度方向的深度为0.2～20μm且沿着所述表面的最大长度为1～10mm的凹部的数目为每1m25个以下。
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