[发明专利]在具有受控压力区的等离子体系统中制备超细颗粒无效
申请号: | 201180032131.2 | 申请日: | 2011-04-19 |
公开(公告)号: | CN102960072A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 洪正宏;N·R·范尼尔 | 申请(专利权)人: | PPG工业俄亥俄公司 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;B01J19/08;B82Y30/00;B22F9/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 孙悦 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 披露了一种制备超细颗粒的系统和方法。在等离子体腔室(10)的入口端产生高温等离子体(22),在该等离子体腔室中引入前体材料。会聚部件(30)位于等离子体腔室(10)的出口端(40)附近。在操作过程中,保持基本上恒定的压力和/或物质流动型态从而减少或者消除系统的结垢。 | ||
搜索关键词: | 具有 受控 压力 等离子体 系统 制备 颗粒 | ||
【主权项】:
制备超细颗粒的系统,包括:(a)具有轴向间隔的入口和出口端的等离子体腔室;(b)与等离子体腔室的入口端相邻设置的高温等离子体;(c)至少一个用于将前体引入到所述等离子体腔室的前体入口,在所述等离子体腔室中通过所述等离子体将所述前体加热以产生流向所述等离子体腔室的出口端的气态产物料流;和(d)与所述等离子体腔室的出口端相邻定位的会聚部件,该气态产物料流流过该会聚部件,其中在装置的操作过程中在所述等离子体腔室和所述会聚部件中保持基本上恒定的压力。
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