[发明专利]锗光检测器有效

专利信息
申请号: 201180033214.3 申请日: 2011-06-21
公开(公告)号: CN102986041A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 朴镇弘;S·阿塞法;金志焕;Y·弗拉索夫 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L31/102 分类号: H01L31/102;H01L31/18
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 于静;张亚非
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种形成光检测器器件的方法包括在衬底上形成绝缘层;在所述绝缘层和所述衬底的一部分上形成锗(Ge)层;在所述Ge层上形成第二绝缘层;在所述Ge层中注入n型离子;构图所述n型Ge层;在所述第二绝缘层和所述第一绝缘层的一部分上形成覆盖绝缘层;加热所述器件以结晶所述Ge层而产生单晶n型Ge层以及形成电连接至所述单晶n型Ge层的电极。
搜索关键词: 检测器
【主权项】:
一种形成光检测器器件的方法,所述方法包括:在衬底上形成绝缘层;在所述绝缘层和所述衬底的一部分上形成锗(Ge)层;在所述Ge层上形成第二绝缘层;在所述Ge层中注入n型离子;构图所述n型Ge层;在所述第二绝缘层和所述第一绝缘层的一部分上形成覆盖绝缘层;加热所述器件以结晶所述Ge层而产生单晶n型Ge层;以及形成电连接至所述单晶n型Ge层的电极。
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