[发明专利]X射线成像装置和成像方法无效
| 申请号： | 201180033753.7 | 申请日： | 2011-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102985010A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 向出大平;中辻七朗 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;G01N23/04;G01N23/20;G21K1/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 杨小明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能够考虑X射线吸收来获取与相位偏移相关的被检体的图像的X射线成像装置和成像方法。设置被配置为将X射线空间分割成多个X射线束的分割元件。设置包含被配置为阻挡通过分割元件获取的X射线的一部分的多个遮蔽元件的遮蔽单元。在第一检测像素处检测的X射线束的一部分被遮蔽元件阻挡。被邻接第一检测像素的第二检测像素检测的X射线束不被遮蔽元件阻挡。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线成像装置，包括：分割元件，所述分割元件被配置为将X射线空间分割成多个X射线束；遮蔽单元，所述遮蔽单元包含被配置为阻挡通过分割元件获取的X射线的一部分的多个遮蔽元件；和检测单元，所述检测单元包含多个像素组，每个像素组包含第一检测像素和第二检测像素，这些像素被配置为检测透过所述遮蔽单元的X射线束的强度，其中，在第一检测像素处检测的X射线束的一部分被所述遮蔽元件阻挡，并且，在邻接第一检测像素的第二检测像素处检测的X射线束不被所述遮蔽元件阻挡。
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