[发明专利]线的气相合成有效
申请号: | 201180034310.X | 申请日: | 2011-05-11 |
公开(公告)号: | CN102971452B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | L.萨穆尔森;M.霍伊林;M.马格努森;K.德珀特 | 申请(专利权)人: | 昆南诺股份有限公司 |
主分类号: | C30B25/00 | 分类号: | C30B25/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 孔青,林森 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种用于形成线(1)的方法和系统,其使得能够大规模过程以及具有与使用基于基底的合成所形成的线相当的高结构复杂性和材料品质。在反应器内线(1)由悬浮于气体中的催化种子颗粒(2)生长。由于模块方法,在连续过程中可形成具有不同构造的线(1)。监测和/或分类颗粒和/或形成的线的原位分析使得能够进行有效的过程控制。 | ||
搜索关键词: | 相合 | ||
【主权项】:
一种用于形成纳米线(1)的方法,所述方法包括:‑ 提供悬浮于气体中的催化种子颗粒(2),‑ 提供包含待形成的纳米线(1)的组分的气态前体(3,4),所述气态前体(3,4)的至少一种是SiH4、DEZn、V族材料前体或III族材料前体,和‑ 在催化种子颗粒的表面处制造晶种,和‑ 在气相合成中,由形成的晶种外延生长半导体纳米线(1),所述气相合成包括气态前体(3,4)同时将催化种子颗粒悬浮于气体中。
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