[发明专利]电容耦合反应器中用梯形波形激励的等离子体加工有效
| 申请号： | 201180034649.X | 申请日： | 2011-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN103168337A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 让-保罗·布斯;埃丽卡·约翰逊 | 申请（专利权）人： | 巴黎高等理工学院;国家科研中心 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;杨莘 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 电容耦合反应器中用梯形波形激励的等离子体加工。本发明涉及用于激励电容包含衬底的耦合反应等离子反应器的至少一个电极的方法。通过施加具有梯形波形的射频电压来激励电极，其中梯形波形包括上升沿、高平台、下降沿和低平台。可通过调整梯形波形的上升沿的持续时间、下降沿的持续时间、振幅和重复频率来控制等离子体密度。通过调整梯形波形的振幅、高平台与低平台之间的相对持续时间来控制衬底处的离子能量分布函数。 | ||
| 搜索关键词： | 电容 耦合 反应器 中用 梯形 波形 激励 等离子体 加工 | ||
【主权项】：
用于激励电容包含衬底的耦合反应等离子反应器的至少一个电极的方法，其特征在于，通过施加具有梯形波形的射频电压来激励所述电极；以及通过调整所述梯形波形的上升沿的持续时间和/或下降沿的持续时间来控制所述等离子体密度以及前往衬底的离子粒子和中性粒子的通量。
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