[发明专利]具有流动凹槽的主缸有效
| 申请号： | 201180035643.4 | 申请日： | 2011-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN103003114A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | A·P·沃森 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | B60T11/20 | 分类号： | B60T11/20;B60T11/232;B60T11/236 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周家新;蔡洪贵 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种主缸，包括：缸孔；位于所述缸孔内的第一活塞；位于所述缸孔内并且定位在第一活塞前侧的第二活塞；位于所述缸孔内的第一压力腔室，所述第一压力腔室被第二活塞的后部分和第一活塞的前部分部分地限定；从第二活塞的后部分径向向外延伸的第一压力腔室密封件；第一容器入口，其被构造成在第一压力腔室密封件的前侧位置处为容器和缸孔之间提供流体连通；以及沿缸孔轴向延伸的第一凹槽，其被定位成使得：（i）当第二活塞处于释放位置时，第一凹槽恰好位于第一压力腔室密封件之外，并且容器通过第一凹槽与第一压力腔室流体连通，且（ii）当第二活塞处于启动位置时，第一压力腔室密封件在第一凹槽的前侧位置处将容器与第一压力腔室隔离开。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 流动 凹槽 | ||
【主权项】：
一种主缸，包括：缸孔；位于所述缸孔内的第一活塞；位于所述缸孔内并且定位在第一活塞前侧的第二活塞；位于所述缸孔内的第一压力腔室，所述第一压力腔室被第二活塞的后部分和第一活塞的前部分部分地限定；从第二活塞的后部分径向向外延伸的第一压力腔室密封件；第一容器入口，其被构造成在第一压力腔室密封件的前侧位置处为容器和缸孔之间提供流体连通；以及沿缸孔轴向延伸的第一凹槽，所述第一凹槽被定位成使得：（i）当第二活塞处于释放位置时，第一凹槽恰好位于第一压力腔室密封件之外，并且容器通过第一凹槽与第一压力腔室流体连通，且（ii）当第二活塞处于启动位置时，第一压力腔室密封件在第一凹槽的前侧位置处将容器与第一压力腔室隔离开。
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