[发明专利]用于投影透镜的位置调节系统有效

专利信息
申请号: 201180036167.8 申请日: 2011-07-26
公开(公告)号: CN103080832A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: F·埃林;D·朗博 申请(专利权)人: 巴尔科股份有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;H04N5/74
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 柳爱国
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
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摘要: 一种用于投影透镜的位置调节系统(10),其允许调节投影透镜(5)相对于投影机(100)的位置,以用于进行沙伊姆弗勒调节。投影透镜(5)具有光学轴线(6)。系统(10)包括:第一支撑部(20),用于装配在投影机(100)上或形成投影机的一部分;第二支撑部(40),用于装配在投影透镜(5)上或形成投影透镜的一部分;以及连接部(30)。连接部(30)可枢轴转动地连接于第一支撑部(20)并可枢轴转动地连接于第二支撑部(40),并被构造成使得第二支撑部(40)能够绕两个旋转轴线(7、8)相对于第一支撑部(20)进行独立调节,这两个旋转轴线与投影透镜(5)的光学轴线(6)相交并与其垂直。提供锁定机构(28、29、51-58)用于固定第二支撑部(40)相对于第一支撑部(20)的位置。
搜索关键词: 用于 投影 透镜 位置 调节 系统
【主权项】:
一种用于调节投影透镜相对于投影机的位置以用于进行沙伊姆弗勒调节的透镜位置调节系统,所述投影透镜具有光学轴线,所述系统包括:第一支撑部,用于装配在投影机上或形成投影机的一部分;第二支撑部,用于装配在投影透镜上或形成投影透镜的一部分;连接部,该连接部可枢轴转动地连接于第一支撑部并且可枢轴转动地连接于第二支撑部,并被构造成允许第二支撑部绕两个旋转轴线相对于第一支撑部进行独立调节,这两个旋转轴线与所述投影透镜的光学轴线相交并与之垂直。
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