[发明专利]通过将流体暴露于紫外线来使流体受到消毒处理的设备有效

专利信息
申请号: 201180036816.4 申请日: 2011-07-11
公开(公告)号: CN103025665A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: E·蒙特;E·霍尔沃达;林大雄;G·格洛伊尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: C02F1/32 分类号: C02F1/32;H01J61/10;H01J65/04;A61L2/10
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰艾恩*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于通过将流体暴露于紫外线来使流体受到消毒处理的设备包括反应器(10),反应器(10)具有内空间(11),用于使流体进入内空间(11)的入口(12)以及用于使流体从该内空间(11)流出的出口,其中在内空间(11)中配置用于发射紫外光的装置(20)。该光线发射装置(20)包括单个电极,其中,环绕内空间(11)的壁(14)被适配为作为电极并且包括导电材料,并且其中,该设备还包括也包括导电材料并且被配置为局部地增强该反应器壁(14)与该光线发射装置(20)之间的空间中的导电性的装置(30)。通过应用这些装置(30),可以改善紫外光的消毒效果。
搜索关键词: 通过 流体 暴露 紫外线 来使 受到 消毒 处理 设备
【主权项】:
一种用于通过将流体暴露于紫外线来使流体受到消毒处理的设备(1),所述设备包括反应器(10),反应器(10)具有内空间(11),用于使流体进入所述内空间(11)的入口(12)以及用于使流体从所述内空间(11)流出的出口(13),其中在所述内空间(11)中配置用于发射紫外线的装置(20),其中,所述光线发射装置(20)包括单个电极(21),其中,环绕所述内空间(11)的壁(14)被适配为作为电极并且包括导电材料,并且其中,所述设备(1)还包括也包括导电材料并且被配置为局部地增强所述反应器壁(14)与所述光线发射装置(20)之间的空间中的导电性的装置(30、35)。
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