[发明专利]通用射束干扰侦测系统有效

专利信息
申请号: 201180036894.4 申请日: 2011-07-27
公开(公告)号: CN103026450A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 佐藤秀 申请(专利权)人: 艾克塞利斯科技公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/304
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明以允许的剂量均匀度、一工作件穿过一离子射束的通过次数、移动速度、以及射束尺寸为基础来决定一干扰时间持续长度临界值。一射束下降检查标准程序会在注入期间重复地测量射束电流。每一次射束电流足够时一射束下降计数器便会被重置。在射束下降第一次出现时,计数器会递增而且该工作件的位置会被记录。每一次后续测量时,倘若射束下降继续则该计数器便会递增,或是倘若该射束足够的话该计数器便会被重置。因此,该计数器会以和测量时间区间相关联的单位来表示每一个下降的长度。该注入标准程序仅在该计数器超过该干扰时间持续长度临界值时才会停止,并且实施修补标准程序,其包括以该工作件少一次移动穿过该射束为基础来重新计算该干扰时间持续长度临界值,并且实施从该已储存位置处开始的注入标准程序。
搜索关键词: 通用 干扰 侦测 系统
【主权项】:
一种用以在将离子注入至一工作件期间解决干扰的方法,该方法包括:提供一离子射束;决定一离子射束干扰时间持续长度临界值,其中该离子射束干扰时间持续长度临界值至少部分系以下面之中的一或多者为基础:该工作件穿过该离子射束的移动次数、移动速度、以及该离子射束的尺寸;沿着至少一慢速扫描路径来移动该工作件穿过该离子射束,以将离子注入至该工作件之中;在该工作件移动期间的复数个预设时间区间反复地决定该离子射束的电流;当所决定的离子射束电流大于一预设数值时,将一计数器设为零;当该计数器为零且所决定的离子射束电流小于该预设数值时,储存该工作件的位置,以定义一干扰的开始;在每一次重复所决定的离子射束电流小于该预设数值且该工作件之位置有被储存时递增该计数器;倘若该计数器超过该离子射束干扰时间持续长度临界值,则抑制该离子射束;以及将该工作件重新定位在该已储存的位置,重新启动该离子射束,并沿着至少该慢速扫描路径再次移动该工作件穿过该离子射束,以对该工作件中和该干扰相关联的部分进行注入。
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