[发明专利]有机无机复合体及其形成用组合物有效

专利信息
申请号: 201180037661.6 申请日: 2011-08-04
公开(公告)号: CN103052651A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 山手太轨;芝田大干 申请(专利权)人: 日本曹达株式会社
主分类号: C08F2/44 分类号: C08F2/44;G02B5/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;金世煜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供在表面具有比内部高的硬度的聚硅氧烷系的有机无机复合体中具有高表面硬度和抗牛顿环性、雾度低、能防止刺目、另外也能具有抗眩光性的有机无机复合体。本发明的有机无机复合体是使用含有以下a)~d)的成分的有机无机复合体形成用组合物而制造的。a)式(I):RnSiX4-n表示的有机硅化合物和/或其缩合物,b)硅烷醇缩合催化剂,c)电磁辐射固化性化合物,和d)金属化合物粒子,该粒子是作为金属氧化物的等电点小于5的金属化合物粒子与作为金属氧化物的等电点为5以上的金属化合物粒子的混合物。
搜索关键词: 有机 无机 复合体 及其 形成 组合
【主权项】:
一种有机无机复合体形成用组合物,其中,含有:a)式(I)表示的至少1种有机硅化合物和/或其缩合物,RnSiX4‑n…(I)式(I)中,R表示碳原子直接键合于Si的有机基团,X表示羟基或水解性基团,n表示1或2,n为2时各R相同或不同,4‑n为2以上时各X相同或不同,b)硅烷醇缩合催化剂,c)电磁辐射固化性化合物,以及d)金属化合物粒子,该粒子是作为金属氧化物的等电点小于5的金属化合物粒子与作为金属氧化物的等电点为5以上的金属化合物粒子的混合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本曹达株式会社,未经日本曹达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180037661.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top