[发明专利]光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法有效
申请号: | 201180039173.9 | 申请日: | 2011-08-09 |
公开(公告)号: | CN103080844A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 松浦裕里子;王晓伟;G·鲍洛斯基 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料IP(日本)株式会社 |
主分类号: | G03F7/32 | 分类号: | G03F7/32 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可同时改良图案倒塌和熔化的光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法。具体提供包含烷基胺等特定的含氮化合物和水的光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法。清洗液也可根据需要包含非离子性表面活性剂。 | ||
搜索关键词: | 光刻 清洗 以及 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光刻用清洗液,其特征在于,其包含由下述通式(1)~(3)中选出的至少一种含氮化合物和水,
式中,R1、R2、以及R3各自独立地为氢、碳原子数1~10的饱和或者不饱和的烃链,此处,与构成所述烃链的碳原子结合的氢也可置换为-OH、-F、=O或者-NH2,所述烃链的途中也可包含-(CO)-、-(COO)-、-(CONH)-、-O-、-NH-或者-N=,R1、R2、以及R3之中的两个也可结合而形成环状结构,R1、R2、以及R3之中的一个的末端也可结合于碳原子数20,000以下的聚合物主链,并且,R1、R2、以及R3之中的至少一个的碳原子数为2以上,
式中,R4、R5、R6、以及R7各自独立地为氢、碳原子数1~10的饱和或者不饱和的烃链,此处,与构成所述烃链的碳原子结合的氢也可置换为-OH、-F、=O或者-NH2,所述烃链的途中也可包含-(CO)-、-(COO)-、-(CONH)-、-O-、-NH-、或者-N=,R4、R5、R6、以及R7之中的两个也可结合而形成环状结构,并且,R4、R5、R6、以及R7不能全部同时为氢,L为碳原子数1~10的烃链,以及
式中,R8、R9、R10、以及R11各自独立地为氢、碳原子数1~10的饱和或者不饱和的烃链,此处,与构成所述烃链的碳原子结合的氢也可置换为-OH、-F、=O或者-NH2,所述烃链的途中也可包含-(CO)-、-(COO)-、-(CONH)-、-O-、-NH-或者-N=,R8、R9、R10、以及R11之中的两个也可结合而形成环状结构,并且,R8、R9、R10、以及R11不能全部同时为氢,L’是碳原子数1~10的烃链,m是表示1~1000的重复数目的数。
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