[发明专利]光记录介质和光记录介质的制造方法无效
| 申请号： | 201180039288.8 | 申请日： | 2011-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN103069488A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 柏木俊行;秋元义浩;齐藤公博;斋藤昭也 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/007;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光记录介质和光记录介质的制造方法，其能使合适的回放信号从光记录介质中属于条码形记录区域（BCA）的区域获取。从轨迹线方向看交替的高反射率区域和低反射率区域分别以连续状态在轨迹节距方向形成条码形反射图案，由此提供利用反射图案记录信息的记录区域（BCA）。在BCA中，低反射率区域由多行凹坑构成。另外，高反射率区域和低反射率区域形成为满足公式S+M/2≤0.6H，其中，从高反射率区域的反射束获取的回放信号的信号电平表示为“H”，从低反射率区域的反射束获取的回放信号的信号电平表示为“S”，从低反射率区域的反射束获取的回放信号的调制度表示为“M”。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光记录介质，通过形成高反射率区域和低反射率区域而形成有条码形反射图案，从轨迹线方向看交替出现的所述高反射率区域和所述低反射率区域以分别在轨迹节距方向连续的状态形成，所述光记录介质包括利用所述反射图案记录信息的记录区域，其中，所述低反射率区域由凹坑列形成，以及所述高反射率区域和所述低反射率区域被形成为满足：S+M/2≤0.6H，其中，从所述高反射率区域的反射光获取的再现信号的信号电平表示为“H”，从所述低反射率区域的反射光获取的再现信号的信号电平表示为“S”，且从所述低反射率区域的反射光获取的再现信号的调制度表示为“M”。
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