[发明专利]半导体基板、绝缘栅极型场效应晶体管以及半导体基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180041352.6 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN103069553A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 福原升 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: H01L21/338 分类号: H01L21/338;H01L29/778;H01L29/78;H01L29/786;H01L29/812
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 龚敏
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体基板,其具有基底基板、第1结晶层、第2结晶层以及绝缘层,基底基板、第1结晶层、第2结晶层以及绝缘层依照基底基板、第1结晶层、第2结晶层、绝缘层的顺序设置,第1结晶层和第2结晶层之间或基底基板和第1结晶层之间还具有第3结晶层,所述第2结晶层包含与构成所述第1结晶层的结晶晶格匹配或准晶格匹配,并且禁带幅宽比构成所述第1结晶层的结晶还大的结晶;所述第3结晶层包含与构成所述第1结晶层的结晶晶格匹配或准晶格匹配,并且禁带幅宽比构成所述第1结晶层的结晶还大的结晶;所述第3结晶层包含成为施体或受体的第1原子,在所述第3结晶层包含成为施体的第1原子时,所述第2结晶层包含成为受体的第2原子,在所述第3结晶层包含成为受体的第1原子时,所述第2结晶层包含成为施体的第2原子。第1结晶层可以作为场效应晶体管中的通道层使用,绝缘层可以作为场效应晶体管中的栅极绝缘层使用。
搜索关键词: 半导体 绝缘 栅极 场效应 晶体管 以及 制造 方法
【主权项】:
一种半导体基板,其特征在于,具有基底基板、第1结晶层、第2结晶层和绝缘层,所述基底基板、所述第1结晶层、所述第2结晶层及所述绝缘层依照所述基底基板、所述第1结晶层、所述第2结晶层、所述绝缘层的顺序设置,所述半导体基板还具有位于所述第1结晶层和所述第2结晶层之间、或所述基底基板和所述第1结晶层之间的第3结晶层;所述第2结晶层包含与构成所述第1结晶层的结晶晶格匹配或准晶格匹配,并且禁带幅宽比构成所述第1结晶层的结晶还大的结晶;所述第3结晶层包含与构成所述第1结晶层的结晶晶格匹配或准晶格匹配,并且禁带幅宽比构成所述第1结晶层的结晶还大的结晶;所述第3结晶层包含成为施体或受体的第1原子,在所述第3结晶层包含成为施体的第1原子时,所述第2结晶层包含成为受体的第2原子,在所述第3结晶层包含成为受体的第1原子时,所述第2结晶层包含成为施体的第2原子。
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