[发明专利]用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的衬底的含水抛光组合物和方法有效
| 申请号： | 201180041503.8 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN103080256A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | Y·李;J-J·初;S·S·文卡塔拉曼;W·L·W·基乌;H·W·平德尔 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04;C09G1/18;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 肖威;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 发现了一种含水抛光组合物，所述含水抛光组合物包含：(A)至少一种磨料颗粒，当其分散于不含组分(B)且pH值为3-9的含水介质中时带正电荷，如电泳迁移率所证实的那样；(B)至少一种选自线性和支化氧化烯均聚物和共聚物的水溶性聚合物；和(C)至少一种阴离子磷酸盐分散剂；以及一种使用所述含水抛光组合物以抛光用于电子、机械和光学器件的衬底材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 包含 氧化 电介质 多晶 衬底 含水 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种含水抛光组合物，所述含水抛光组合物包含：(A)至少一种磨料颗粒，当其分散于不含组分(C)且pH值为3‑9的含水介质中时带正电荷，如电泳迁移率所证实的那样；(B)至少一种选自线性和支化氧化烯均聚物和共聚物的水溶性聚合物；和(C)至少一种阴离子磷酸盐分散剂。
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