[发明专利]钼(IV)酰胺前驱物和其在原子层沉积中的用途有效

专利信息
申请号: 201180041532.4 申请日: 2011-08-25
公开(公告)号: CN103097394A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 彼得·尼古拉·海斯;拉杰什·奥德德拉;萨拉赫·路易斯·欣德利 申请(专利权)人: 辛格玛艾瑞契有限责任公司
主分类号: C07F11/00 分类号: C07F11/00;C07F17/00;C23C16/40
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 章蕾
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文揭示钼(IV)酰胺络合物,其结构对应于式(I):其中L为--NR1R2;R1和R2为C1-C6烷基或氢;R为C1-C6烷基;且n为0、1、2或3。此外,本文揭示采用式(I)络合物和Mo[N(Me)(Et)]4通过原子层沉积(ALD)来形成MoO2膜的方法。
搜索关键词: iv 前驱 原子 沉积 中的 用途
【主权项】:
一种络合物Mo[N(Me)(Et)]4。
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