[发明专利]装置有效

专利信息
申请号: 201180041762.0 申请日: 2011-08-29
公开(公告)号: CN103080374A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: T·阿拉萨雷拉;P·索伊尼宁 申请(专利权)人: BENEQ有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张涛
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种处理至少部分圆柱状的表面(4,5)的装置。所述装置包括至少一个喷嘴头(2),喷嘴头(2)包括:一个或多个第一前体区域(14),用于使圆柱状物体(6)的基体(7)或表面(4)受到第一前体的作用;和一个或多个第二前体区域(16),用于使圆柱状物体(6)的表面(4)受到第二前体的作用。根据本发明,喷嘴头(2)形成为圆柱体,所述圆柱体具有中心轴线和包括输出面的大致圆形的外周,并且所述输出面具有一个或多个第一前体区域(14)和一个或多个第二前体区域(16)。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
一种用于通过使基体(7)的表面(3)与至少第一前体和第二前体接连发生表面反应来处理基体(6)的至少部分圆柱状的表面(4)或基体(7)的顺应圆柱状表面(5)的表面(3)的装置,所述装置包括具有输出面的至少一个喷嘴头(2),所述喷嘴头(2)包括:一个或多个第一前体区域(14),用于使所述表面(3,4)受到所述第一前体的作用;以及一个或多个第二前体区域(16),用于使所述表面(3,4)受到所述第二前体的作用;所述喷嘴头(2)形成为圆柱体,所述圆柱体具有中心轴线和包括所述输出面的大致圆形的外周,并且所述输出面设置有所述一个或多个第一前体区域(14)和所述一个或多个第二前体区域(16),其特征在于,所述喷嘴头(2)和所述基体(3,4)布置成沿着圆柱状的喷嘴头(2)的所述中心轴线的方向相对于彼此运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于BENEQ有限公司,未经BENEQ有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180041762.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top