[发明专利]装置有效
申请号: | 201180041762.0 | 申请日: | 2011-08-29 |
公开(公告)号: | CN103080374A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | T·阿拉萨雷拉;P·索伊尼宁 | 申请(专利权)人: | BENEQ有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张涛 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 本发明涉及一种处理至少部分圆柱状的表面(4,5)的装置。所述装置包括至少一个喷嘴头(2),喷嘴头(2)包括:一个或多个第一前体区域(14),用于使圆柱状物体(6)的基体(7)或表面(4)受到第一前体的作用;和一个或多个第二前体区域(16),用于使圆柱状物体(6)的表面(4)受到第二前体的作用。根据本发明,喷嘴头(2)形成为圆柱体,所述圆柱体具有中心轴线和包括输出面的大致圆形的外周,并且所述输出面具有一个或多个第一前体区域(14)和一个或多个第二前体区域(16)。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种用于通过使基体(7)的表面(3)与至少第一前体和第二前体接连发生表面反应来处理基体(6)的至少部分圆柱状的表面(4)或基体(7)的顺应圆柱状表面(5)的表面(3)的装置,所述装置包括具有输出面的至少一个喷嘴头(2),所述喷嘴头(2)包括:一个或多个第一前体区域(14),用于使所述表面(3,4)受到所述第一前体的作用;以及一个或多个第二前体区域(16),用于使所述表面(3,4)受到所述第二前体的作用;所述喷嘴头(2)形成为圆柱体,所述圆柱体具有中心轴线和包括所述输出面的大致圆形的外周,并且所述输出面设置有所述一个或多个第一前体区域(14)和所述一个或多个第二前体区域(16),其特征在于,所述喷嘴头(2)和所述基体(3,4)布置成沿着圆柱状的喷嘴头(2)的所述中心轴线的方向相对于彼此运动。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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