[发明专利]雪崩光电二极管有效
申请号: | 201180042210.1 | 申请日: | 2011-09-01 |
公开(公告)号: | CN103081129A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 石桥忠夫;安藤精后;名田允洋;村本好史;横山春喜 | 申请(专利权)人: | NTT电子股份有限公司;日本电信电话株式会社 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种能够降低台面表面、电极层的形状所引起的暗电流的APD。APD(301)具备:半绝缘性基板(1);在半绝缘性基板(1)面上,按照p型电极层(2)、p型光吸收层(3A)、低杂质浓度的光吸收层(3B)、带隙倾斜层(4)、p型电场控制层(5)、雪崩倍增层(6)、n型电场控制层(7A)、以及低杂质浓度的电子行进层(7B)的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面(101);以及从层叠方向看,外周处于第1台面(101)的外周的内侧,在第1台面(101)的电子行进层(7B)侧的表面上,按照n型电极缓冲层(8A)、以及n型电极层(8B)的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面(102),n型电场控制层(7A)的总施主浓度比p型电场控制层(5)的总受主浓度低2×1011~1×1012/cm2的范围。 | ||
搜索关键词: | 雪崩 光电二极管 | ||
【主权项】:
一种雪崩光电二极管,其特征在于包括:半绝缘性基板;在所述半绝缘性基板面上,按照p型电极层、p型光吸收层、低杂质浓度的光吸收层、带隙倾斜层、p型电场控制层、雪崩倍增层、n型电场控制层、以及低杂质浓度的电子行进层的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面;以及从层叠方向看,外周处于所述第1台面的外周的内侧,在所述第1台面的所述电子行进层侧的表面上,按照n型电极缓冲层、以及n型电极层的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面,所述n型电场控制层的总施主浓度比所述p型电场控制层的总受主浓度低2×1011~1×1012/cm2的范围。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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