[发明专利]雪崩光电二极管有效

专利信息
申请号: 201180042210.1 申请日: 2011-09-01
公开(公告)号: CN103081129A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 石桥忠夫;安藤精后;名田允洋;村本好史;横山春喜 申请(专利权)人: NTT电子股份有限公司;日本电信电话株式会社
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供一种能够降低台面表面、电极层的形状所引起的暗电流的APD。APD(301)具备:半绝缘性基板(1);在半绝缘性基板(1)面上,按照p型电极层(2)、p型光吸收层(3A)、低杂质浓度的光吸收层(3B)、带隙倾斜层(4)、p型电场控制层(5)、雪崩倍增层(6)、n型电场控制层(7A)、以及低杂质浓度的电子行进层(7B)的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面(101);以及从层叠方向看,外周处于第1台面(101)的外周的内侧,在第1台面(101)的电子行进层(7B)侧的表面上,按照n型电极缓冲层(8A)、以及n型电极层(8B)的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面(102),n型电场控制层(7A)的总施主浓度比p型电场控制层(5)的总受主浓度低2×1011~1×1012/cm2的范围。
搜索关键词: 雪崩 光电二极管
【主权项】:
一种雪崩光电二极管,其特征在于包括:半绝缘性基板;在所述半绝缘性基板面上,按照p型电极层、p型光吸收层、低杂质浓度的光吸收层、带隙倾斜层、p型电场控制层、雪崩倍增层、n型电场控制层、以及低杂质浓度的电子行进层的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面;以及从层叠方向看,外周处于所述第1台面的外周的内侧,在所述第1台面的所述电子行进层侧的表面上,按照n型电极缓冲层、以及n型电极层的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面,所述n型电场控制层的总施主浓度比所述p型电场控制层的总受主浓度低2×1011~1×1012/cm2的范围。
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