[发明专利]含水酸性溶液和蚀刻溶液以及使单晶和多晶硅衬底表面织构化的方法在审

专利信息
申请号: 201180042294.9 申请日: 2011-08-25
公开(公告)号: CN103080273A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: S·布劳恩;A·克里普;C·勒格尔-格普费特;C·比特纳;M·沈;C·林 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司
主分类号: C09K13/08 分类号: C09K13/08;H01L21/302
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 肖威;刘金辉
地址: 德国路*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种含水酸性溶液以及一种适于织构化单晶和多晶硅衬底表面的含水酸性蚀刻溶液:氢氟酸、硝酸和至少一种具有表面活性的阴离子聚醚;一种使单晶和多晶硅衬底表面织构化的方法,包括如下步骤:(1)使衬底的至少一个主表面与所述含水酸性蚀刻溶液接触;(2)使所述衬底的所述至少一个主表面在一定温度下蚀刻一定时间,从而足以获得由凹陷和凸起构成的表面织构;和(3)使所述衬底的所述至少一个主表面与所述含水酸性蚀刻溶液脱离接触;以及一种使用所述溶液和所述织构化方法生产光伏电池和太阳能电池的方法。
搜索关键词: 含水 酸性 溶液 蚀刻 以及 使单晶 多晶 衬底 表面 织构化 方法
【主权项】:
一种含水酸性溶液,其包含:‑氢氟酸,‑硝酸,和‑至少一种具有表面活性的阴离子聚醚。
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