[发明专利]日光照射装置有效
| 申请号： | 201180042501.0 | 申请日： | 2011-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN103080794A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | J·迈尔;M·P·J·皮特斯;R·T·韦格;R·P·范戈科姆;R·A·M·希克梅特 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;F21S11/00;F21S19/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰艾恩*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种日光照射装置。日光收集器(3)收集光导(5)沿着光路引向待照射的照射位置的日光(4)，其中日光被光导(5)吸收。光致发光材料(6，8)被布置于光路内并且发射补偿光导对日光的吸收的光致发光的光。因此可以有效地补偿日光的吸收损耗而未必需要例如有源补偿光源。这允许以技术上相对简单的方式提供补偿的日光照射。 | ||
| 搜索关键词： | 日光 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种日光照射装置，包括：‑日光收集器(3)，用于收集日光(4)，‑光导(5)，用于沿着光路将所述日光引向待照射的照射位置，其中所述日光被所述光导(5)吸收，‑光致发光材料(6，8)，用于在所述光致发光材料(6，8)被所述日光照射时发射用于照射所述照射位置的光致发光的光，其中所述光致发光材料(6，8)被布置于所述光路内并且被适配使得所述光致发光的光补偿所述光导(5)对所述日光的所述吸收。
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