[发明专利]用于印刷具有大焦深的周期图案的方法和设备

摘要

一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括：提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模；布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层；生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案，由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所需图案，其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。

主权项

一种用于向衬底上形成的光敏层中印刷线性特征的所需周期性图案的方法，该方法包括：a）提供掩模，所述掩模承载具有周期的与第一方向平行的线性特征的掩模图案，所述周期是所需图案的周期的两倍；b）与所述掩模基本上平行地并且用距所述掩模图案的间隔布置所述光敏层；c）以波长生成基本上单色光；并且d）在基本上在与所述第一方向平行的第一平面中的角度范围上用所述光照射所述掩模图案，由此所述掩模透射的在每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布范围并且在所述光敏层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所述所需图案；其中相对于所述波长、所述间隔和所述周期选择所述角度范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光在所述照射角度之一形成的所述横向强度分布范围的平均。