[发明专利]薄型偏光膜的制造方法在审
| 申请号： | 201180043473.4 | 申请日： | 2011-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN103108738A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 森智博;宫武稔;上条卓史;后藤周作;喜多川丈治 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B29C55/06 | 分类号： | B29C55/06;G02B5/30;G02F1/1335;B29K29/00;B29K67/00;B29L7/00;B29L9/00;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造具有优异的光学特性的薄型偏光膜的方法。本发明的薄型偏光膜的制造方法包括：在热塑性树脂基材（11）上形成聚乙烯醇系树脂层（12）而制作层叠体（10）的工序；和在硼酸水溶液中将层叠体（10）进行水中拉伸的工序；和在水中拉伸后，边使层叠体（10）干燥边进行拉伸的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种薄型偏光膜的制造方法，其包括如下工序：在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇系树脂层而制作层叠体的工序；和在硼酸水溶液中将该层叠体进行水中拉伸的工序；和在该水中拉伸后，边使该层叠体干燥边进行拉伸的工序。
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