[发明专利]光学记录介质有效
| 申请号： | 201180043515.4 | 申请日： | 2011-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN103189919A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 三木刚;田内裕基 | 申请（专利权）人： | 索尼公司;株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | G11B7/243 | 分类号： | G11B7/243;G11B7/24038;G11B7/2578 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 张英;王玉桂 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种可以控制每个记录层的反射率和透射率且在每个记录层中可以获得满意的记录特性的光学记录介质。[技术方案]一种光学记录介质（10），包括：基板（11）；和两个或更多个记录层（121、122、123），所述记录层包含Pd、O、和M（其中M是选自Zn、Al、In、和Sn中的一种或多种元素），并且O的含量大于M被完全氧化（被完全氧化成ZnO、Al2O3、In2O3、和SnO2）时的化学计量组成。当从与记录光入射的侧相对的侧计数时，第n个记录层的Pd含量小于第n-1个记录层中的Pd含量，其中所述第n个记录层是所述两个或更多个记录层（121、122、123）中的任意一个。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种光学记录介质，包括：基板；以及两层或更多层的记录层，所述记录层包含Pd、O、和M（M是Zn、Al、In、和Sn中的一种或多种元素），并且O以大于M被完全氧化（被完全氧化成ZnO、Al2O3、In2O3、和SnO2）时的化学计量组成的量被包含，其中所述两层或更多层的记录层中的从记录光的入射侧的相对侧数的第n个（n是2以上的自然数）记录层中的Pd含量小于第n‑1个记录层中的Pd含量。
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