[发明专利]光扩散元件在审
申请号: | 201180044583.2 | 申请日: | 2011-09-16 |
公开(公告)号: | CN103109215A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 西村明宪;泷田智仁;渊田岳仁;武本博之 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;F21V3/04;G02F1/1335 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王玉玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种光扩散性优异(即,具有较高的浊度)而且外观不均较少的光扩散元件。本发明的光扩散元件具有:基材膜及设置在该基材膜的一面的光扩散膜,该光扩散膜的浊度值为75%以上,该光扩散膜包含氟系表面活性剂,该氟系表面活性剂偏在于该光扩散膜中的与该基材膜相反侧的面,该氟系表面活性剂包含选自由下述通式(I)所表示的结构单元、下述通式(II)所表示的结构单元及下述通式(III)所表示的结构单元所组成的组的至少1种结构单元;[化1],-O-CF2-O-···(III),通式(I)中,m是1~10的整数,通式(II)中,n是2~10的整数。 | ||
搜索关键词: | 扩散 元件 | ||
【主权项】:
1.一种光扩散元件,其具有:基材膜及设置于该基材膜的一个面的光扩散膜,该光扩散膜的浊度值为75%以上,该光扩散膜含有氟系表面活性剂,该氟系表面活性剂偏在于该光扩散膜中的与该基材膜相反侧的面,该氟系表面活性剂包含选自由下述通式(I)所表示的结构单元、下述通式(II)所表示的结构单元及下述通式(III)所表示的结构单元所组成的组中的至少1种结构单元;[化1]-O-CF2-O-···(III)通式(I)中,m是1~10的整数,通式(II)中,n是2~10的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180044583.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种采煤机变频器的测控装置
- 下一篇:激光谐振腔中光学元件精密调整及锁紧装置