[发明专利]纳米光学的折射光学器件有效
| 申请号： | 201180045778.9 | 申请日： | 2011-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN103119498A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | H·K·金;Y-S·荣;Y·习 | 申请（专利权）人： | 匹兹堡高等教育联邦体系大学 |
| 主分类号： | G02B27/12 | 分类号： | G02B27/12 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国宾*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种垂直偶极子阵列结构，其包括支持膜的衬底，该膜不是由负折射率超材料组成。该膜包括多个倾斜取向的部分和孔径。至少两个倾斜取向的部分由孔径隔开，且倾斜取向的部分被配置成使得入射辐射重定向成负或正折射方向。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 光学 折射 器件 | ||
【主权项】：
一种垂直偶极子阵列结构，其包括（A）支持（B）膜的衬底，所述膜包括多个倾斜取向的部分，其中（ⅰ）所述膜具有多个孔径，（ⅱ）至少两个所述倾斜取向的部分由孔径隔开，（ⅲ）所述倾斜取向的部分被配置成使得入射辐射重定向在负折射方向上，以及（ⅳ）所述膜不是由负折射率超材料组成。
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