[发明专利]β 型赛隆的制备方法有效
| 申请号： | 201180046132.2 | 申请日： | 2011-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN103168086A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 江本秀幸 | 申请（专利权）人： | 电气化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K11/08 | 分类号： | C09K11/08;C09K11/64 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 杨黎峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供具有更高荧光强度的β型赛隆的制备方法。本发明的β型赛隆的制备方法具有：对含有硅、铝及铕的原料粉末进行混合的混合工序；将混合得到的原料在惰性气体或非氧化性气体的气氛中进行烧成，生成由通式：Si6－zAlzOzN8－z:Eu（0＜z＜4.2）表示的β型赛隆的烧成工序；对生成的β型赛隆进行退火处理的退火工序；对退火处理后的β型赛隆进行酸处理的酸处理工序。退火处理在以下条件下进行：还原性气氛中、气氛压力为100kPa以上至10MPa以下、气氛温度为1200℃以上至1600℃以下、并且处理时间为1小时以上至24小时以下。 | ||
| 搜索关键词： | 型赛隆 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种β型赛隆的制备方法，包括：混合工序，对含有硅、铝及铕的原料粉末进行混合；烧成工序，将混合得到的原料在惰性气体或非氧化性气体的气氛中进行烧成，并生成由通式：Si6－zAlzOzN8－z：Eu表示的β型赛隆，其中0＜z＜4.2；退火工序，对生成的β型赛隆进行退火处理；酸处理工序，将退火处理后的β型赛隆浸在酸溶液中，其中，退火处理在以下条件下进行：还原性气氛中、气氛压力为1kPa以上至10MPa以下、气氛温度为1200℃以上至1600℃以下、并且处理时间为1小时以上至24小时以下。
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