[发明专利]光反应性聚合物及包括该聚合物的取向层有效
| 申请号： | 201180046564.3 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103124750A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 柳东雨;全成浩;崔大胜 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | C08F32/08 | 分类号： | C08F32/08;C08G61/02;C08L45/00;C09K19/56;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光反应性聚合物，和包括所述聚合物的取向层，其具有优异的取向速率和取向稳定性。所述光反应性聚合物包括具有至少一个取代的光反应性基团的基于环状烯烃的重复单元，并且在辐照总光剂量为20mJ/cm2或更低的波长为150至450nm的偏振UV光时由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每单位光剂量（mJ/cm2）的二氯比变化的最大绝对值为至少0.003。 | ||
| 搜索关键词： | 光反应 聚合物 包括 取向 | ||
【主权项】：
一种光反应性聚合物，其包括具有至少一个光反应性取代基的基于环状烯烃的重复单元，所述光反应性聚合物在总曝光剂量为20mJ/cm2或更低时曝光至波长为150至450nm的偏振UV辐射后由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的最大绝对值至少为0.003。
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