[发明专利]反射镜、用于极紫外投射曝光系统的光学系统以及制造组件的方法有效
| 申请号： | 201180047361.6 | 申请日： | 2011-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103140802A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | J.劳夫;H.费尔德曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于EUV辐射(14)的反射镜(20)，其包含反射镜主体，其具有至少一个EUV辐射反射区(23)及至少两个EUV辐射可穿透区(22)。因此，也可以较小入射角及较大物侧数值孔径形成照明和成像光束路径的空间分离。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 用于 紫外 投射 曝光 系统 光学系统 以及 制造 组件 方法 | ||
【主权项】：
一种用于EUV辐射（14）的反射镜（20；20a）‑具有反射镜主体（21），所述反射镜主体（21）‑‑具有至少一个EUV辐射反射区（23）及‑‑至少两个EUV辐射可穿透区（22）；‑其中所述辐射可穿透区（22）具有包络（35），其中所述包络（35）界定一面积，所述面积覆盖所述至少一个辐射反射区（23）的总体的至少30%。
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