[发明专利]有机EL装置无效
申请号: | 201180048477.1 | 申请日: | 2011-10-04 |
公开(公告)号: | CN103155701A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 小野善伸 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | H05B33/04 | 分类号: | H05B33/04;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02;F21Y105/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张玉玲 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种有机EL装置,其具有第1膜、与所述第1膜相对配置的第2膜、介于所述第1膜与所述第2膜之间的有机EL元件。第2膜具有含有硅原子、氧原子及碳原子的阻气层。阻气层的硅分布曲线、氧分布曲线以及碳分布曲线满足下述条件:(i)阻气层的厚度方向的90%以上的区域中,硅原子数的比率为第二大的数值,(ii)所述碳分布曲线具有至少1个极值,以及(iii)碳分布曲线中碳原子数的比率的最大值与最小值之差为5原子%以上。 | ||
搜索关键词: | 有机 el 装置 | ||
【主权项】:
一种有机EL装置,其具有第1膜、与所述第1膜相对配置的第2膜、以及介于所述第1膜与所述第2膜之间的有机EL元件;所述第2膜与所述第1膜一起对所述有机EL元件进行密封,所述第2膜具有含有硅原子、氧原子以及碳原子的阻气层,硅分布曲线、氧分布曲线以及碳分布曲线满足下述条件(i)、(ii)、(iii),其中,所述硅分布曲线、氧分布曲线以及碳分布曲线分别表示相对于硅原子、氧原子以及碳原子的总量的硅原子数的比率、氧原子数的比率以及碳原子数的比率、与所述阻气层的厚度方向的距所述阻气层的一个表面的距离之间的关系;(i)在所述阻气层的厚度方向的90%以上的区域中,硅原子数的比率、氧原子数的比率以及碳原子数的比率中的硅原子数的比率为第二大的数值,(ii)所述碳分布曲线具有至少1个极值,以及(iii)所述碳分布曲线中碳原子数的比率的最大值与最小值之差为5原子%以上。
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