[发明专利]头戴式耳机装置有效
| 申请号： | 201180049803.0 | 申请日： | 2011-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN103155594A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 今誉 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | H04R5/033 | 分类号： | H04R5/033;H04R1/10;H04R1/40;H04S1/00;H04S7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李春晖;王娜丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 为了在虚拟声场再现中使个体差异的影响最小并且还为了使得能够自然听见外部声音。一种头戴式耳机装置，其中，左侧头戴式耳机单元和右侧头戴式耳机单元具有包括多个扬声器单元的扬声器阵列，多个扬声器单元被布置为围绕外耳。头戴式耳机单元中的扬声器阵列使用波前合成以在外耳附近的闭合曲面内再现声场。由个体差异导致的影响不太可能发生，这是因为扬声器阵列通过波前合成在外耳附近的闭合曲面内再现声场，且因为在每个个体的耳朵中发生混响和衍射效应。此外，扬声器阵列包括被布置成围绕外耳的多个扬声器单元，并扬声器阵列的形状不遮挡收听者的耳朵，这使得能够自然听见外部声音。 | ||
| 搜索关键词： | 头戴式 耳机 装置 | ||
【主权项】：
一种头戴式耳机装置，包括：扬声器阵列，所述扬声器阵列由多个扬声器单元构成，所述多个扬声器单元被布置成围绕外耳，其中，所述扬声器阵列使用波场合成，在所述外耳附近的闭合曲面内再现声场。
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