[发明专利]积层体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180049985.1 申请日: 2011-10-13
公开(公告)号: CN103153617A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 高桥夕佳;田仲拓郎;平野幸夫;大熊康之;山广干夫 申请(专利权)人: 捷恩智株式会社
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;B32B7/02;C08F20/26;C08J7/04;C08L33/14;C08L101/12;G02B1/10;G02B1/11
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种在一个层中具备具有防污功能、低折射率、高折射率的层的积层体及其制造方法。积层体1包括:透明的基材10;以及于基材10上侧,使射入的光折射的折射层11。折射层11至少包含选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的组群中的一种以上的氟化合物(ss)、及具有比所述氟化合物(ss)更高的折射率的树脂(p1)。折射层11内的氟化合物(ss)的浓度对于基材10侧(背面s2侧)及其相反侧(表面s1侧)而言,相反侧(表面s1侧)更高,且折射层11于层内形成低折射率与高折射率的倾斜构造层。
搜索关键词: 积层体 及其 制造 方法
【主权项】:
一种积层体,其包括:透明的基材;以及于所述基材上侧,使射入的光折射的折射层;所述折射层至少包含选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的组群中的一种以上的氟化合物、及具有比所述氟化合物更高的折射率的树脂,所述折射层内的所述氟化合物的浓度对于所述基材侧及其相反侧而言,所述相反侧更高,且所述折射层于层内形成低折射率与高折射率的倾斜构造层。
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